是什么卡了中国顶级光刻机的脖子?

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近年来,中国科技正带着澎湃动力向前奔跑,并逐渐进入到跟跑、并跑、领跑“三跑并存”的阶段。但当当当我们都在充满信心的同去,还应更加清醒和理性。与发达国家相比,我国不少领域关键核心技术受制于人,亟待集中力量奋力攻关。

真正的核心技术靠化缘是要不来的。当当当我们都还有哪有几个亟待攻克的关键核心技术,差距在哪,时要从哪哪有几个方面突破?《科技日报》4月19日的专栏“亟待攻克的核心技术”,解读了哪哪有几个让中国难望顶级光刻机项背的“细节”。

以下为全文:

指甲盖大小的芯片,密布千万电线,纹丝不乱,时要极端精准的照相机——光刻机。光刻机精度,决定了芯片的上限。高精度光刻机产自ASML、尼康和佳能三家;顶级光刻机由ASML垄断。

“十二五”科技成就展览上,上海微电子装备公司(SMEE)生产的中国最好的光刻机,与中国的大飞机、登月车并列。它的加工精度是90纳米,相当于304年上市的奔腾四CPU的水准。国外因为做到了十几纳米。

ASML EUV光刻机 问世时售价曾达1亿美元 图源:网络

祖传的磨镜手艺

光刻机跟照相机差不要 ,它的底片,是涂满光敏胶的硅片。电路图案经光刻机,缩微投射到底片,蚀刻掉一每种胶,露出硅面做化学解决。制造芯片,要重复几十遍你是什么过程。